現(xiàn)在使用的離子源存在兩個問題： I[Lg0H8  
1、加速電流非常不穩(wěn)定，突變比較大，數(shù)量在10mA以內(nèi)波動；是否跟離子源工作狀態(tài)的穩(wěn)定性有關(guān)？ uLS]=:BT  
2、加速電流設(shè)置不知道多少數(shù)值為佳？ vTO9XHc E  
有沒有懂得，指點一二。 q2vD)r  

是不是設(shè)定在最大輸出功率 的60~80%，會不會是比較妥當(dāng)?shù)膥 &-yRa45?  
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加速電流我不清楚能不能設(shè)定，參數(shù)那邊我只知道可以設(shè)定加速電壓

10mA很小了。光馳基本上是100mA的變化。 )[Tm[o?Y.  
加速電流變化一般是氣體流量的問題，氣體流量是受真空壓力變化波動的。 O2{["c e  
而真空壓力波動的原因很大一部分是受電子槍蒸發(fā)的影響。 6VGY4j}:(  
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一般RF源出廠時候做分布都是最高電壓最大電流為基準(zhǔn)的。 .`OU\LA  
所以最大電流分布是最好的。但是電流大了電壓高了， UA6id|G  
溫度也就高了，膜系的應(yīng)力會受影響。 Ek)drt7cy  
可能會產(chǎn)生脫膜，變形等問題。

rexchou:是不是設(shè)定在最大輸出功率 的60~80%，會不會是比較妥當(dāng)?shù)膥
加速電流我不清楚能不能設(shè)定，參數(shù)那邊我只知道可以設(shè)定加速電壓 (2017-12-01 10:06)  aK_5@8+ZD  

:21d  
加速電壓是膜系參數(shù)設(shè)置的，電流好像可以通過界面設(shè)置，但是鍍膜過程記錄中這個加速電流一直在波動，外觀做不好，我懷疑跟這個有關(guān)系。但是不能確定，所以問一下你們有沒有做過這些驗證。

ouyuu:10mA很小了。光馳基本上是100mA的變化。 <M:BN6-yG  
加速電流變化一般是氣體流量的問題，氣體流量是受真空壓力變化波動的。 94tfR$W;-  
而真空壓力波動的原因很大一部分是受電子槍蒸發(fā)的影響。
一般RF源出廠時候做分布都是最高電壓最大電流為基準(zhǔn)的。 QH'*MY  
....... (2017-12-01 17:22)  ^')8-aF .  

N5?bflY  
膜層倒是沒有受多大的影響，但是外觀感覺不太穩(wěn)定，會不會與加速電流波動有關(guān)�。�

外觀？指顏色還是發(fā)霧，或者是灰塵？ uxfh?gsL  
原因不一樣的。

我以前有一個類似的情況：我是AR氣瓶端接口處漏氣，使MFC氣流量不穩(wěn)定，但beam電流是穩(wěn)定的，鍍出的膜色也不穩(wěn)定。你那個情況beam不穩(wěn)，折射率有偏差。

10mA的變化不算什么。如果設(shè)定是1000mA的話，也就1%左右。 I*rUe#$  
這點變化量比傘差還小，根本不可能引起折射率問題。 @\by`3*Q  
^to*ET{0  
漏氣也不太可能造成氣流不穩(wěn)。