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光弛1300鍍膜機(jī)離子源柵網(wǎng)更換后氧化硅與氧化鈦匹配系數(shù)失衡,請(qǐng)大神幫忙分析一下
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liujun0527
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樓主
發(fā)表于: 2017-06-07
各位好,最近在生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)
鍍膜
機(jī)固定的2套柵網(wǎng)周期性更換后,內(nèi)外圈氧化硅與氧化鈦
材料
匹配系數(shù)失衡,導(dǎo)致
曲線
頻譜落差變大,請(qǐng)各大神指導(dǎo)一下從哪些方向上分析改善。
$y*["~TJ
VlFDMw.4.+
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發(fā)表于: 2017-06-13
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2樓
發(fā)表于: 2017-06-27
一樓正解,大家一定要注意的是,離子源的狀態(tài)會(huì)影響膜層的位置均勻性,更換離子源部件或者調(diào)整離子源參數(shù)都可能會(huì)發(fā)生樓主那樣的情況
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囊中蓄乾坤
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3樓
發(fā)表于: 2017-06-30
如果只是鍍前轟擊的話,會(huì)不會(huì)影響鍍膜的均勻性。遇到過(guò)在鍍后轟擊會(huì)引起膜層不均勻的現(xiàn)象。
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拉比熊
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4樓
發(fā)表于: 2017-07-05
首先 檢測(cè)的是 離子源柵網(wǎng)更換是的重復(fù)性工作,其次才是MASK
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奔跑的小駿馬
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5樓
發(fā)表于: 2017-07-22
MASK只是修正鐘罩的,而鐘罩是不變得。所以我們要從以下幾個(gè)方面去考慮:
ht S5<+Y
1、鐘罩是否變形,你可以從鐘罩的幾個(gè)不同的位置去取測(cè)試片對(duì)比以下特性的差異,有可能是因?yàn)殓娬肿冃,每次取的測(cè)試片位置不一致導(dǎo)致特性不停的變動(dòng);
$N=A,