俄羅斯莫斯科工程物理學(xué)院(NRNUMEPhI)的科學(xué)家在《表面與涂層技術(shù)》雜志上發(fā)表的文章中稱，他們研制出能在熔融材料的蒸汽中產(chǎn)生強(qiáng)電流脈沖磁控放電的等離子發(fā)生器。新技術(shù)能更快地噴涂出高質(zhì)量的薄膜。 sQUJ]h  
B3|h$aKC  
磁控濺射是對(duì)使用節(jié)能涂層材料的建筑物玻璃進(jìn)行沉淀的唯一方法，可將能顯著提高性能的硬涂層噴射到切割工具上。在微電子學(xué)中，這種辦法被用于集成電路板的金屬化;在光學(xué)中，可用來(lái)生產(chǎn)濾光器;也可用來(lái)生產(chǎn)疏水涂層。新研制的等離子發(fā)生器由等離子接頭和電源組成，在特殊的磁控放電模式下工作，在這些模式下能發(fā)揮熔融材料的強(qiáng)烈蒸汽作用，以此形成涂料。 A#;6~f  
R+{QZ'K.qg  
該校等離子物理教研室研究員亞歷山大·杜馬爾金說(shuō):“在零件上的薄膜慢速增長(zhǎng)與真空蒸發(fā)，長(zhǎng)期以來(lái)一直都是磁控濺射技術(shù)的難題。新技術(shù)成功地將兩種技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)合二為一。我們已經(jīng)學(xué)會(huì)在保證質(zhì)量情況下的高速濺射。” g@0<`g  
XrP'FLY o  
莫斯科工程物理學(xué)院等離子物理教研室的科學(xué)研究員安德烈·卡奇耶夫說(shuō):“設(shè)備的工業(yè)樣品和用于生產(chǎn)高質(zhì)量單獨(dú)涂層的模塊一樣。我們的潛在客戶是生產(chǎn)節(jié)能窗、現(xiàn)代能源組件以及各型材機(jī)械制造的企業(yè)�！� ko<u0SjF)u  
KmS$CFsGL  
在全球，磁控濺射法占了生產(chǎn)適用于電子、機(jī)械、建筑和其他領(lǐng)域的金屬及介電涂層市場(chǎng)的很大一部分份額。該方法是對(duì)被加工的零件涂上借助等離子、通過(guò)特別靶標(biāo)噴出的材料。目前，磁控濺射鍍膜是在高技術(shù)領(lǐng)域中生產(chǎn)薄膜最常見(jiàn)的方式。