近日，中國科學(xué)院微電子研究所集成電路先導(dǎo)工藝研發(fā)中心韋亞一課題組在與武漢新芯集成電路制造公司光刻部門以及計算光刻軟件商ASML和Mentor Graphics合作中，對光源和掩模聯(lián)合優(yōu)化、設(shè)計與工藝聯(lián)合優(yōu)化、焦面位置變化的高精度檢測和高精度光刻套刻對準(zhǔn)問題進(jìn)行了聯(lián)合攻關(guān)，成功開發(fā)出產(chǎn)業(yè)界適用的解決方法，保證了先進(jìn)技術(shù)節(jié)點的光刻工藝穩(wěn)定性及可制造性。 Z?oG*G:  
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