用lighttools做個背光源，要求雙面出均勻光，布點時候直接用BPO布點了，發(fā)現(xiàn)雙面布點沒法加入初始位移，使得兩面點大小相同密度相同但錯開一個點位 *7ap[YXZ\w  
正反兩面都用hexagonal分布圓點，反射和透過都寫50%，split ray，問BPO能否在不移動我初始布好的點位置情況下僅優(yōu)化點大�。� D@[$?^H  
目前是希望BPO在我設(shè)定的固定點位置上優(yōu)化大小不希望他動到點的位置，這樣怎么處理？ >7vSN<w~m  
求高手 n-Dr/c4  
另外同時優(yōu)化雙面出光斑時能不能把兩個評估函數(shù)整合到一起，優(yōu)化每一面的光板都對兩面的綜合情況進行優(yōu)化？ YxS*im[%]  
求高手啊~

只改變點大小不改變位置的設(shè)置如下： tSYe
Z~  

圖片:Picture1.jpg

.IF dJ  
SkvKzV.R;  
優(yōu)化同時考慮兩個面的設(shè)置如下： :".!6~:2  

圖片:Picture2.jpg

hahahahk:只改變點大小不改變位置的設(shè)置如下： TF{ xFb)  
[圖片]
優(yōu)化同時考慮兩個面的設(shè)置如下： >+$1 p_  
[圖片] (2013-09-30 17:20)  hwC3['  

RrRCT.+E  
謝謝，好棒