是否說(shuō)光譜的極大值與極大值之間,極小值與極小值之間相差較大,就判定有吸收,還有初始時(shí)的K一般設(shè)為多大?是否設(shè)的大小與后來(lái)算出來(lái)的有很大關(guān)系? n9n)eI)R
因?yàn)槲覀冮_(kāi)始做一個(gè)材料的工藝時(shí),比如TIO2,就要考慮放多少氧才能不吸收,放氧多了畢竟不好(致密性不好),所以我想做的是沒(méi)有參考工藝時(shí)判定材料有無(wú)吸收. "F6gV;{Bt
我用fit a dispersion formula 計(jì)算得到NK很離譜,是否是因?yàn)槲覝y(cè)量的T的取值間隔太大(我從440-800nm,20nm為間隔,但極大與極小值都有特別寫入)? q6<P\CSHy<
我看李正中的光學(xué)薄膜與鍍膜技術(shù)中說(shuō)過(guò),只要知道測(cè)量的T值和基板的N值,就可以用包絡(luò)法求出材料的NK還有D(厚度),怎么在實(shí)際中沒(méi)遇到這樣的軟件呢? }}D32T VN
大俠們,給條明路呀
