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訊技光電:VirtualLab Fusion獨(dú)家供應(yīng)商	微小光學(xué)與微透鏡陣列	光學(xué)設(shè)計(jì)與光學(xué)元件	計(jì)算光學(xué)帶來的成像革命

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[分享]在反應(yīng)濺射鋁的過程中的打弧問題 [復(fù)制鏈接]

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離線余登峰

實(shí)習(xí)生

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2011-11-27

在反應(yīng)濺射鋁的過程中的打弧問題，看到的共享一下。

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離線zmfu77

實(shí)習(xí)生

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只看該作者 1樓發(fā)表于: 2011-12-16

如果采用的是直流磁控濺射設(shè)備，應(yīng)該有以下幾個(gè)原因：
1、靶的兩端污染嚴(yán)重，導(dǎo)電性能差，積累大量電荷，造成對真空腔體放電打火。