最快優(yōu)化最好薄膜設(shè)計(jì)軟件OptiLayer《用戶手冊(cè)》 ;$4: &T  
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來(lái)自俄羅斯的最強(qiáng)大光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)軟件OptiLayer，是鍍膜工藝專家、數(shù)學(xué)家和軟件高手的精華之作，采用獨(dú)特的針式算法，計(jì)算速度超快，設(shè)計(jì)能力超強(qiáng)，迄今，還沒(méi)有一種薄膜OptiLayer不能設(shè)計(jì)。目前國(guó)外非常流行！ @\=4 Rin/q  
自1993年起，隸屬美國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)（OSA）的OIC（Optical Interface Coating）組織，定期舉辦光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)大賽（OIC contest），所有優(yōu)勝者的共同特點(diǎn)是都使用了基于針式優(yōu)化設(shè)計(jì)理論的OptiLayer軟件！ +^4HCyW  
OptiLayer軟件包的三個(gè)模塊 g{m~TVm'  
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一、OptiLayer 模塊 C{V,=Fo^  
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OptiLayer 模塊的功能同大多數(shù)軟件差不多，不同處在于：1.能解決其它軟件不能再優(yōu)化的問(wèn)題；2.運(yùn)算速度快，比同時(shí)期的同類軟件快數(shù)百倍。其具體原因可參考針式算法專題。 #}
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二、OptiChar模塊 m
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OptiChar模塊主要通過(guò)鍍膜材料實(shí)測(cè)光學(xué)特性參數(shù)(某波段范圍內(nèi)的反射率和透過(guò)率曲線)給出一評(píng)估曲線，再通過(guò)在某一基底下，考察給定薄膜理論中一些因素(厚度、折射率、消光系數(shù)和不均一性)時(shí)，擬合出在當(dāng)前考察因素下，最接近鍍膜材料實(shí)測(cè)出的光譜特性評(píng)估曲線的層材料光譜特性曲線，進(jìn)而給出此時(shí)的層材料模型(包含層材料的厚度、折射率、消光系數(shù)和不均一性)。擬合得越好則給出的層材料模型越接近當(dāng)前鍍膜條件下的實(shí)際情況。 3C#Sr6  
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且在考察和不考察某一因素時(shí)，如果擬合狀況無(wú)多大變化，則說(shuō)明當(dāng)前考察的光學(xué)特性(反射或透過(guò))對(duì)該因素不敏感。即該因素對(duì)當(dāng)前考察的光學(xué)特性無(wú)多大影響。因而再利用該層材料作設(shè)計(jì)且為當(dāng)前考察的光學(xué)特性時(shí)，可以忽略該因素的影響而不去考慮它。 *o=( w5   
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如上表即薄膜理論中最重要的一些因素：不均一性、消光系數(shù)和表面粗糙度對(duì)某一層材料實(shí)際測(cè)得的光譜特性(反射和透過(guò))的影響程度。由上表我們可知在利用該層材料模型做設(shè)計(jì)時(shí)，若設(shè)計(jì)只考慮反射時(shí)，則該三因素中只需考慮不均一性；同理若設(shè)計(jì)只考慮透過(guò)時(shí)，則該三因素中需考慮不均一性和消光系數(shù)。
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三、OptiRE模塊 s 8lfW6  
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OptiRE這一模塊為工程反演，其主要目的為向生產(chǎn)過(guò)程提供一個(gè)回饋。 ~A*$+c(  
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OptiRE中采用一差異函數(shù)比較設(shè)計(jì)模型光譜特性和生產(chǎn)后薄膜實(shí)驗(yàn)測(cè)得的光譜特性， OptiRE的工程反演運(yùn)算法則是基于使該差異函數(shù)值最小。（OptiLay模塊的優(yōu)化設(shè)計(jì)則是優(yōu)化比較理論和目標(biāo)光譜特性的評(píng)價(jià)函數(shù)值） gZ {  
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為提高生產(chǎn)質(zhì)量，我們需要消除或者使誤差最小。在OptiRE中我們考察兩類生產(chǎn)誤差：系統(tǒng)誤差和隨機(jī)誤差。 s>ZlW:jY  
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系統(tǒng)誤差是那些在下一次沉積或加工時(shí)還會(huì)發(fā)生的誤差。系統(tǒng)誤差通過(guò)工程反演知道并能通過(guò)采用具有更精確刻度的監(jiān)測(cè)裝置；而由工程反演得出的隨機(jī)誤差信息能被用來(lái)研究生產(chǎn)誤差產(chǎn)生的原因。 }wGy#!CSza  
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OptiRE中還考察折射率修正、系統(tǒng)不均一性等生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的一些實(shí)際問(wèn)題。注意：應(yīng)優(yōu)先考察系統(tǒng)誤差。 k| >zauK  
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四、小結(jié) ,{#L