由中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所、上海市激光學(xué)會(huì)聯(lián)合舉辦的 2008 光學(xué)薄膜技術(shù)培訓(xùn)班定于 2008 年 11 月初在上海光機(jī)所進(jìn)行。 /:%^Vh3XF  
    在已經(jīng)連續(xù)成功舉辦三屆培訓(xùn)班的基礎(chǔ)上，應(yīng)廣大光學(xué)薄膜專業(yè)人士和愛(ài)好者的強(qiáng)烈要求，我們將在 2008 年舉辦第四屆光學(xué)薄膜技術(shù)培訓(xùn)班。本培訓(xùn)班秉承以實(shí)際應(yīng)用為主的課程設(shè)計(jì)思路，讓學(xué)員在參加完培訓(xùn)后學(xué)有所得，切實(shí)解決具體生產(chǎn)過(guò)程中可能出現(xiàn)的問(wèn)題。同時(shí)兼顧光學(xué)薄膜研究中的學(xué)術(shù)發(fā)展，不但適合生產(chǎn)型企業(yè)負(fù)責(zé)具體操作的技術(shù)人員，同樣也適合從事科研工作與研發(fā)工作的學(xué)生與科研人員。 e {c.4'q  
    本屆培訓(xùn)班授課教師均是經(jīng)過(guò)前三屆課程之后學(xué)員反饋意見(jiàn)比較好的教師 ，將邀請(qǐng)浙江大學(xué)、同濟(jì)大學(xué)、中科院光電所、上海技物所以及長(zhǎng)春光機(jī)所等單位的專家作為客座講師 。培訓(xùn)班期間所使用 Essential Macleod 軟件由訊技光電科技（上海）有限公司贊助支持。 R]ppA=1*_l  
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      課程主要內(nèi)容包括光學(xué)薄膜基本原理、設(shè)計(jì)方法與 Essential Macleod 軟件的應(yīng)用、光學(xué)薄膜沉積技術(shù)與工藝 s?_b[B d  
方法、光學(xué)薄膜測(cè)試技術(shù)與測(cè)試結(jié)果的解讀。培訓(xùn)期間還將設(shè)置兩個(gè)下午的專題講座，邀請(qǐng)國(guó)內(nèi)主要光學(xué)薄膜研究單位就相關(guān)領(lǐng)域的科研進(jìn)展與技術(shù)發(fā)展進(jìn)行專題報(bào)告。     {uckYx-A  
■ 光學(xué)薄膜基本原理、設(shè)計(jì)方法與 Essential Macleod 軟件的應(yīng)用 gqe z-  
深入淺出地講解光學(xué)薄膜基本原理，介紹多種膜系的設(shè)計(jì)與優(yōu)化方法；結(jié)合 國(guó)際上最流行的著名光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)分析軟件（ Essential Macleod ）的使用，針對(duì)實(shí)例，演示完整的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析過(guò)程。 ]qpcA6%a|  
■ 光學(xué)薄膜沉積技術(shù)與工藝方法 s fti[  
涵蓋光學(xué)薄膜制備完整的工藝流程，結(jié)合沉積技術(shù)對(duì)最終薄膜性能的影響，實(shí)例講解系統(tǒng)配置、沉積技術(shù)以及工藝參數(shù)的選擇、調(diào)控與優(yōu)化。 w.0.||C O  
■ 光學(xué)薄膜測(cè)試技術(shù)與測(cè)試結(jié)果的解讀 }Efp{E  
介紹光學(xué)薄膜的光譜、損耗、激光損傷、力學(xué)以及微結(jié)構(gòu)等多角度的測(cè)試技術(shù)與相關(guān)設(shè)備裝置；結(jié)合光學(xué)薄膜測(cè)試實(shí)踐，講解測(cè)試結(jié)果的分析與應(yīng)用。 5^%^8o  
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