MEMS的課程論文，寫得比較認真，希望對大家有用^_^ 傳上來掙點分……
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本文主要對具有代表性的三維結(jié)構(gòu)——針形陣列的多種制造工藝作出介紹。包括： }G=M2V<L
1、移動掩模深X射線光刻（Moving mask deep X-ray lithography,M2DXL）技術(shù) kza 5ab
2、改變X射線入射方向的二次曝光方法 !k%# R4*>
3、水平型正交橫截面技術(shù)（Plane-pattern to cross section transfer，PCT）
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4、X射線灰色掩模技術(shù) l:%GH
并對最新的制造方法：X射線灰色掩模（X-ray gray mask）光刻技術(shù)做詳細介紹。
