光刻刻蝕壓摸光學(xué)件加工 Jh ]i]7r  
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高精度光學(xué)元件 -F<Wd/Xse  
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我們公司依據(jù)現(xiàn)有光學(xué)元件加工技術(shù),開(kāi)展了一系列的光學(xué)元件加工工藝.根據(jù)市場(chǎng)對(duì)光學(xué)產(chǎn)品高精度,高質(zhì)量,高產(chǎn)量的需求， .w0s%T,8}^  
將我們能為大家提供的產(chǎn)品介紹如下,以供大家需求. Kac' ;
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1.光刻模版設(shè)計(jì)制作。    a>GyO&+Dkg  
我們可以根據(jù)客戶具體要求,客戶來(lái)圖(任意圖形軟件電子版),進(jìn)行掩摸設(shè)計(jì),掩摸制作,掩摸尺寸根據(jù)客戶需求而定. zxC#0@qX07  
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制作掩摸最小線寬2微米.精度正負(fù)0.2微米,最大面積320mmX320mm。 [/e<l&y  
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2.光刻產(chǎn)品 i[?Vin  
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