光刻刻蝕壓摸光學(xué)件加工 \f? K74  
7$Z_'GJ]1C  
高精度光學(xué)元件 XV]xym~  
/~w*)e)  
我們公司依據(jù)現(xiàn)有光學(xué)元件加工技術(shù),開展了一系列的光學(xué)元件加工工藝.根據(jù)市場對光學(xué)產(chǎn)品高精度,高質(zhì)量,高產(chǎn)量的需求， ||QK)$"  
將我們能為大家提供的產(chǎn)品介紹如下,以供大家需求. XZARy:+bc  
        xm1di@  
1.光刻模版設(shè)計(jì)制作。    M.t,o\xl  
我們可以根據(jù)客戶具體要求,客戶來圖(任意圖形軟件電子版),進(jìn)行掩摸設(shè)計(jì),掩摸制作,掩摸尺寸根據(jù)客戶需求而定. zHZfp_I  
SDO:Gma  
制作掩摸最小線寬2微米.精度正負(fù)0.2微米,最大面積320mmX320mm。 ~SBb2*ID  
[BD`h  
2.光刻產(chǎn)品 mI,lW|/l,  
9X