1.關于重點取樣。 n*iaNaU"'
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研究過mannual 里面對于重點取樣的描述,應該是個有效的提高追跡效率的方法。但是自己的經(jīng)驗是對光源設置是有效的,但是對散射面(透射,反射)不僅無效,在重點取樣方向有效光線數(shù)反而減少。 HA"dw2|
我試過改變散射面的法向與重點取樣面的組合,還有確認是"Towards"而不是離開。結果還是一樣。有沒有達人有這方面經(jīng)驗? o<P%|>qX
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2.關于追跡不完全。 ? *I9
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我最近在做的一個不算復雜的模擬,追30萬光線,提示時間15分鐘,但是總是在12-3萬的地方自動停止,沒有任何提示,這樣光通量計算就是錯的。之后作任何屬性的修改都提示無法提取一個dll文件,“MSJET4x.dll",重新打開才可以。 w6Tb<ja
試過修改一些結構,(拉開部件距離,防止overlap),結果都是一樣。但是作其他的模擬都不會有問題。這是怎么回事? o<l4}~a
--另,內存應該沒有用完,機器配置:P4 3.4Gx2(不過TP似乎只能使用一個),RAM 3G DDR2 533