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    [技術(shù)]錐形相位掩模的Talbot圖像 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-06-27
    摘要 >adV(V<  
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    在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中，在光敏層中僅使用一個(gè)圖像。 但是，可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。 在本案例中，按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態(tài)方法 (FMM，也稱(chēng)為 RCWA) 對(duì)具有一層錐體的相位掩模進(jìn)行建模。可以檢測(cè)到不同的 Talbot 圖像，在主像平面中會(huì)再現(xiàn)柱狀圖案，而在次要像平面中再現(xiàn)孔圖案。 o`r(`6@  
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    建模任務(wù) 8TZENRzx-|  
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