帖子
勛章
關(guān)注
任務(wù)
晶合“一種光刻工藝的仿真處理方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)”專利公布 專利摘要顯示，本發(fā)明提供一種光刻工藝的仿真處理方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)，其通過獲取初始光強分布數(shù)據(jù)，并基于該數(shù)據(jù)通過調(diào)整散射條的寬度和/或光罩的透光率，以獲得對應(yīng)的中間光強分布數(shù)據(jù)。接著，基于中間光強分布數(shù)據(jù)獲取對應(yīng)的目標寬度和目標透光率，從而將光刻工藝中的散射條寬度和/或光罩透光率調(diào)整至目標值，完成光刻工藝的仿真處理。該專利技術(shù)能夠改善在光刻工藝中出現(xiàn)的光阻凸起問題，提升了工藝的精準性和產(chǎn)品的質(zhì)量。 |
最新評論
-
ttb2016 2023-12-04 22:43改善在光刻工藝中出現(xiàn)的光阻凸起問題！
-
tassy 2023-12-04 23:53可提升工藝的精準性和產(chǎn)品的質(zhì)量。
-
unlogical 2023-12-05 02:56不知道是用在多少精度的工藝上
-
phisfor 2023-12-05 07:01好厲害好厲害
-
likaihit 2023-12-05 07:39有具體的權(quán)利書
-
redplum 2023-12-05 07:40很好的技術(shù)
-
liulin666 2023-12-05 08:21晶合“一種光刻工藝的仿真處理方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)”
-
雨后無文 2023-12-05 08:30提升了工藝的精準性和產(chǎn)品的質(zhì)量
-
camelots 2023-12-05 08:33
改善在光刻工藝中出現(xiàn)的光阻凸起問題！
-
11yy 2023-12-05 08:39提供一種光刻工藝的仿真處理方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)，其通過獲取初始光強分布數(shù)據(jù)，并基于該數(shù)據(jù)通過調(diào)整散射條的寬度和/或光罩的透光率，以獲得對應(yīng)的中間光強分布數(shù)據(jù)。