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晶合“一種光刻工藝的仿真處理方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)”專利公布 專利摘要顯示，本發(fā)明提供一種光刻工藝的仿真處理方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)，其通過獲取初始光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)，并基于該數(shù)據(jù)通過調(diào)整散射條的寬度和/或光罩的透光率，以獲得對(duì)應(yīng)的中間光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)。接著，基于中間光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)獲取對(duì)應(yīng)的目標(biāo)寬度和目標(biāo)透光率，從而將光刻工藝中的散射條寬度和/或光罩透光率調(diào)整至目標(biāo)值，完成光刻工藝的仿真處理。該專利技術(shù)能夠改善在光刻工藝中出現(xiàn)的光阻凸起問題，提升了工藝的精準(zhǔn)性和產(chǎn)品的質(zhì)量。 |
最新評(píng)論
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ttb2016 2023-12-04 22:43改善在光刻工藝中出現(xiàn)的光阻凸起問題！
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tassy 2023-12-04 23:53可提升工藝的精準(zhǔn)性和產(chǎn)品的質(zhì)量。
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unlogical 2023-12-05 02:56不知道是用在多少精度的工藝上
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phisfor 2023-12-05 07:01好厲害好厲害
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likaihit 2023-12-05 07:39有具體的權(quán)利書
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redplum 2023-12-05 07:40很好的技術(shù)
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liulin666 2023-12-05 08:21晶合“一種光刻工藝的仿真處理方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)”
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雨后無文 2023-12-05 08:30提升了工藝的精準(zhǔn)性和產(chǎn)品的質(zhì)量
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camelots 2023-12-05 08:33
改善在光刻工藝中出現(xiàn)的光阻凸起問題！
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11yy 2023-12-05 08:39提供一種光刻工藝的仿真處理方法、裝置、設(shè)備及介質(zhì)，其通過獲取初始光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)，并基于該數(shù)據(jù)通過調(diào)整散射條的寬度和/或光罩的透光率，以獲得對(duì)應(yīng)的中間光強(qiáng)分布數(shù)據(jù)。