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摘要 Mw;^`ZxT $@dPIq4o;}
組件內(nèi)部光場分析器： FMM使用戶能夠研究微觀和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)的電磁場分布。為此，通過應(yīng)用傅里葉模態(tài)法/嚴格耦合波分析（FMM/RCWA）計算任意周期結(jié)構(gòu)，包括透射和反射光柵、介電或金屬光柵。也可以指定領(lǐng)域的哪一部分應(yīng)該可視化：正向模式，反向模式，或兩者結(jié)合。 $T2zs$
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 x1#6~283 ?Y$3R"p@3` 尋找組件內(nèi)部光場分析器： FMM -]Oi/i,
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