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    [技術(shù)]光柵內(nèi)部光場(chǎng)分析器 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-07-05
    摘要 m@c\<-P  
    '_M"yg6d  
    組件內(nèi)部光場(chǎng)分析器: FMM使用戶能夠研究微觀和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)的電磁場(chǎng)分布。為此,通過應(yīng)用傅里葉模態(tài)法/嚴(yán)格耦合波分析(FMM/RCWA)計(jì)算任意周期結(jié)構(gòu),包括透射和反射光柵、介電或金屬光柵。也可以指定領(lǐng)域的哪一部分應(yīng)該可視化:正向模式,反向模式,或兩者結(jié)合。 c ^+{YH;k  
    ;LFs.Jc<  
    }woNI  
    $mDlS  
    尋找組件內(nèi)部光場(chǎng)分析器: FMM oAq<ag\qV  
    tq8rG@-C  
    ;fKFmY41  
               CDDOm8  
    組件內(nèi)部光場(chǎng)分析器: FMM是光柵光學(xué)設(shè)置的專用功能,它提供了光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場(chǎng)的可視化。 wb (quu  
    %1PNP<3r0  
    `BKV/Xl  
    評(píng)估模式 CW;=q[+w  
       y/6%'56uF  
    %b3s|o3An  
    5| bc*iqU  
    評(píng)估區(qū)域 +FlO_=Bu  
    eQ eucmQd{  
    NR0fxh  
    !I[|\ 4j  
    光柵類型 ~V!gHJ5M  
    q5ja \  
    H6%%n X  
    V.kRV{43  
    光柵表面的采樣 o" e]9{+<  
    -|3feYb'  
    xa|/P#q  
    tG(!d$^  
    光柵表面的采樣 =S}SZYw l  
    ;UDd4@3`S"  
    ?CUGJT  
     
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