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    [技術(shù)]光柵內(nèi)部光場分析器 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-07-05
    摘要 oSNB\G<  
    1W~-C B>  
    組件內(nèi)部光場分析器： FMM使用戶能夠研究微觀和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)的電磁場分布。為此，通過應(yīng)用傅里葉模態(tài)法/嚴(yán)格耦合波分析（FMM/RCWA）計算任意周期結(jié)構(gòu)，包括透射和反射光柵、介電或金屬光柵。也可以指定領(lǐng)域的哪一部分應(yīng)該可視化：正向模式，反向模式，或兩者結(jié)合。 iMx+y5O  
    3sGrX"0D  
     wlqV1.K  
    L:YsAv  
    尋找組件內(nèi)部光場分析器： FMM A`(p6 H"s  
    ~m!>e])P?X  
     j-gLX  
               +Smv<^bW  
    組件內(nèi)部光場分析器： FMM是光柵光學(xué)設(shè)置的專用功能，它提供了光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部電磁場的可視化。 `Q26Dk  
     f<SSg* A;  
    mXc/sh")X  
    評估模式 *B}vYX  
       'G(N,vu[@  
    $Fz/&;KX!  
    ,b>cy&ut  
    評估區(qū)域 ~b\7 qx_a9  
    >&^w\"'  
    XyS#6D  
    `H$s -PX  
    光柵類型 4NR,"l)  
    SNvK8,"g  
    t{~"vD9Am  
     !P@u4FCs  
    光柵表面的采樣 vzi=[A  
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