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摘要 r/{0Y Fa `^_.E:f
仿真技術(shù)的主要作用之一是提供一個(gè)平臺(tái)，以便在系統(tǒng)制造之前研究系統(tǒng)的性能，以便盡可能多地預(yù)防潛在的缺陷。雜散光是影響系統(tǒng)性能的最常見(jiàn)現(xiàn)象之一，雜散光可能有多個(gè)來(lái)源，其中包括系統(tǒng)中的內(nèi)部偽反射。在這個(gè)用例中，我們分析了高Na激光二極管準(zhǔn)直透鏡系統(tǒng)中這種反射的存在，我們模擬了產(chǎn)生的鬼像對(duì)探測(cè)場(chǎng)的影響(由主準(zhǔn)直光束的干涉引起的同心環(huán)圖案和由雜散光產(chǎn)生的二次發(fā)散)，并確定需要在透鏡系統(tǒng)的關(guān)鍵表面上涂上抗反射涂層。 "h:xdaIE/p [0J0 <JnK  c-s ~q/ *a$z!Ma3h 建模任務(wù) 2OK%e Vba "]JS,g {m  C/]0jAAE7
 - Tz/ZOJ .^Ek1fi. 準(zhǔn)直系統(tǒng) "I+wU`AIek )9@Ftz g|  N2~DxVJ5cT
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