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    [技術(shù)]雙折射晶體偏振干涉效應 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-04-04
    簡介 EJm*L6>@R&  
    Y![//tg  
    本文的目的是介紹FRED的材料性質(zhì)方面一些高級的設定,這些設定共分成以下幾個部份。 q6T>y%|FZ  
     雙折射晶體和偏振光干涉 o%3VE8-  
    光源偏振設置 FNHJHuTe  
     雙折射材料方向和其他設定 M1,1J-h  
     干涉結(jié)果和光線性質(zhì)查看 QG]*v=Z  
     漸變折射率(GRIN)材料 '(fCi  
     腳本設置漸變折射率材料 Uv|^k8(  
     定性模擬結(jié)果 b l]YPx8  
    3BK_$Fy  
    雙折射晶體和偏振光干涉 rrc>O*>{i  
    Y}hz UKJ  
    偏振光干涉現(xiàn)象在實際中有很多應用,這里要模擬的是一種典型的雙折射干涉實驗,設置如下圖所示:左側(cè)是偏振光源,偏振方向是在xy平面且與x軸夾角45度,所有光線的反向延長線指向一點。接下來光線經(jīng)過方解石平板,厚2mm,光軸方向沿z 軸。然后光線通過偏振片,偏振片方向與光源方向垂直(xy 平面,與x 夾角-45度),偏振片是通過設置偏振鍍膜來實現(xiàn)的。最右邊是接收分析面,光線在這里停止,用來計算光強。 fK1^fzV  
    ^!x}e+