n G4U k2> 利用
光學(xué)手性和內(nèi)置手性參量的形式，可以在JCMsuite中計(jì)算光學(xué)散射體的手性響應(yīng)。結(jié)果表明，時(shí)間諧波光學(xué)手性密度服從局部連續(xù)性方程[1]。這使得手性行為的分析類似于電磁能量的研究。
Q:-%3)g<< .IW_DM- 圓
偏振平面波是光手性的本征態(tài)。因此，近場(chǎng)光手性密度與圓偏振密切相關(guān)。在
幾何光學(xué)中，四分之一波板將線偏振轉(zhuǎn)換為圓偏振是眾所周知的。它們是由雙折射
材料制成的，例如各向異性材料。波片的厚度是尋常(x-)偏振和非尋常(z-)偏振
波長(zhǎng)差的四分之一。入射平面波在xz方向上線性偏振，在-y方向上傳播，如下圖所示：
PV ,kYM6 四分之一波片的能量守恒和光學(xué)手性
+ d6Aw}*
