各位大佬，磁控濺射鍍膜過程中的電子損傷能用什么辦法檢測出來嘛，電子損傷有什么辦法將其消除或者規(guī)避掉嘛？

是電子本身造成的損傷，還是二次電子造成的靜電損傷？ ku3D?D:V  
有些問題屬于小知識小竅門，網(wǎng)上問的到結(jié)果。 7jezw'\=~  
有些問題屬于別人花了很多錢開發(fā)出來的獨有技術(shù)和工藝， j6X LyeG7  
屬于保密范疇，網(wǎng)上是問不到結(jié)果的。 $
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ouyuu:是電子本身造成的損傷，還是二次電子造成的靜電損傷？ Flne=ij6g  
有些問題屬于小知識小竅門，網(wǎng)上問的到結(jié)果。 &:C{
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有些問題屬于別人花了很多錢開發(fā)出來的獨有技術(shù)和工藝， S--/<a2  
屬于保密范疇，網(wǎng)上是問不到結(jié)果的。 A@\
qoS[  
 (2021-12-16 11:58)  lbG}noqb  

8_+vb#M  
好滴，謝謝。這個電子損傷主要是濺射沉積過程中產(chǎn)生的電子，包括二次電子，應(yīng)該不包括靜電。

這樣…… p"g1V7B  
我這邊只做過新柯隆，他們家是先濺射再氧化的。 Rd .U;>  
氧化的時候多余的氧離子就可以把電子中和了，所以之前也沒有關(guān)注過這種問題。 f<) Ro$  
你們能不能鍍膜的時候加上一個氧化源？

ouyuu:這樣……