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摘要 6>I.*Qt \l
-Me\nu8(RF 光學(xué)各向異性，也被稱為雙折射，是產(chǎn)生各種光學(xué)現(xiàn)象及其相關(guān)應(yīng)用的原因。VirtualLab Fusion提供了一種快速和嚴格的場跟蹤分析算法，該算法應(yīng)用于S矩陣求解器，并工作在k域。在本應(yīng)用案例中，介紹了各向異性介質(zhì)的基本配置。 A ngwBZ@ oX~CTunP
 u"jnEKN0y K; PpS*! 目錄中的各向異性介質(zhì) Q/9b'^UJ M)7enp) F.
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4o3GS8 定義各向異性介質(zhì) %-Z~f~ <? 雙軸晶體由三個方向的主折射率定義； 2LU'C,o? 單軸晶體由o折射率和e折射率定義; hd;I x%tq> 一般各向異性介質(zhì)可以通過直接定義介電常數(shù)張量建立。 JPG!c X% M6sDtL 9l =*Xf(mh
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