薄膜測量設備(膜厚、n、k等)
美國Filmetrics公司F20系列薄膜測量設備:可精確快速測量各種光學及半導體薄膜的厚度、折射率及消光系數(shù)等。
精度:0.4%或1埃 測量速度:秒級 光譜范圍:紫外到紅外 厚度范圍:幾十埃到幾百微米 多種光接入方式(樣品測量平臺)。 詳情請來信或登錄www.clight.com.cn查看。 |
薄膜測量設備(膜厚、n、k等)
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精度:0.4%或1埃 測量速度:秒級 光譜范圍:紫外到紅外 厚度范圍:幾十埃到幾百微米 多種光接入方式(樣品測量平臺)。 詳情請來信或登錄www.clight.com.cn查看。 |
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