近日，上海微電子舉行新產(chǎn)品發(fā)布會(huì)，宣布推出新一代大視場(chǎng)高分辨率先進(jìn)封裝光刻機(jī)。目前，上微已與多家客戶達(dá)成新一代先進(jìn)封裝光刻機(jī)銷售協(xié)議，首臺(tái)將于年內(nèi)交付。光學(xué)光刻是一種用光將掩模圖案投影復(fù)制的技術(shù)，集成電路就是由投影曝光裝置制成的，將具有不同掩模圖案的圖形成像至基底上，制造集成電路、薄膜磁頭、液晶顯示板，或微機(jī)電等一系列結(jié)構(gòu)。 Jl}$)'  
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過(guò)去數(shù)十年曝光設(shè)備技術(shù)水平不斷發(fā)展，滿足了更小線條尺寸，更大曝光面積，更高可靠性及產(chǎn)率，以及更低成本的需求。然而現(xiàn)有的光刻投影物鏡依舊存在諸如數(shù)值孔徑較小、分辨率低、適用波段窄、數(shù)值孔徑不可變和非球面透鏡加工制造成本高等問(wèn)題。 (ttO O45  
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為此，上海微電子于 2018 年 12 月 30 日申請(qǐng)了一項(xiàng)名為“一種光刻投影物鏡及光刻機(jī)”的發(fā)明專利（申請(qǐng)?zhí)? 201811648523.1），申請(qǐng)人為上海微電子裝備 (集團(tuán)) 股份有限公司。 0BD3~Lv  
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圖1為本發(fā)明提出的光刻投影物鏡的結(jié)構(gòu)示意圖，包括第一透鏡組、第二透鏡組和第三透鏡組，以及與以上透鏡組關(guān)于光闌對(duì)稱設(shè)置的第四透鏡組、第五透鏡組和第六透鏡組。通過(guò)調(diào)節(jié)光闌的通光孔的大小可以調(diào)節(jié)光刻投影物鏡的數(shù)值孔徑，從而增加光刻投影物鏡適用于不同場(chǎng)景的能力。且各透鏡組的焦距設(shè)定能夠增大光刻投影物鏡的數(shù)值孔徑，提升光刻投影物鏡的分辨率。 T9u/|OP  
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第一透鏡組G1、第三透鏡組G3、第四透鏡組G4 以及第六透鏡組G6 具有正的光焦度，第二透鏡組 G2 以及第五透鏡組 G5 具有負(fù)的光焦度。光焦度等于像方光束會(huì)聚度與物方光束會(huì)聚度之差，它表征光學(xué)系統(tǒng)偏折光線的能力。光焦度的絕對(duì)值越大，對(duì)光線的彎折能力越強(qiáng)，反之對(duì)光線的彎折能力越弱。光焦度為正數(shù)時(shí)，光線的屈折是匯聚性的，反之則是是發(fā)散性的。光焦度可以適用于表征一個(gè)透鏡的某一個(gè)折射面，或表征某一個(gè)透鏡，也可以適用于表征多個(gè)透鏡共同形成的系統(tǒng)。 Ij#?r2Z%  
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各透鏡組以及光闌 STOP 中的所有的透鏡均為球面透鏡。球面透鏡是指從透鏡的中心到邊緣具有恒定的曲率，球面透鏡的兩個(gè)折射面均為球面，而非球面透鏡則是從中心到邊緣之曲率連續(xù)發(fā)生變化，因此球面透鏡相對(duì)于非球面透鏡而言更容易加工。本發(fā)明實(shí)施例中的透鏡全部采用球面透鏡，降低了光刻投影物鏡中透鏡的加工成本，縮短了透鏡的加工周期，提升了光刻投影物鏡的裝調(diào)效率。 27;*6/>,  
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簡(jiǎn)而言之，上海微電子的光刻投影物鏡專利，通過(guò)采用球面透鏡設(shè)計(jì)，降低了加工制造成本，增大了數(shù)值孔徑，并且適用于 ghi 三線波段。擴(kuò)展了投影物鏡的適用場(chǎng)景，提高了光刻機(jī)的分辨率。 5HmX-+XpK  
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