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    [培訓(xùn)]從薄膜原理、設(shè)計(jì)到工藝 10月22~24日 上海 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-07-09
    [table=1200,#e9f0f3,,1][tr][td=2,1] ,:,c kul  
    時(shí)間地點(diǎn):[/td][/tr][tr][td=2,1] yJKezIL\z  
    主辦單位:訊技光電科技(上海)有限公司(微信公眾號(hào):infotek);常熟黌論教育咨詢有限公司(微信公眾號(hào):honglun-seminary) #}B~V3UD  
    授課時(shí)間:2021 年10月22(五)-24(日) AM 9:00 - PM 16:00 +J#H9>To!  
    授課地點(diǎn):上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號(hào)南翔財(cái)富中心中暨大廈18樓 }}Q|O]e  
    課程講師:訊技光電工程師&資深顧問(wèn) :jUd?(  
    課程費(fèi)用:4500RMB(課程包含課程材料費(fèi)、開(kāi)票稅金、午餐費(fèi)用)[/td][/tr][tr][td=2,1]課程簡(jiǎn)介:[/td][/tr][tr][td=2,1]當(dāng)收到需求者的光學(xué)規(guī)格及非光學(xué)規(guī)格如環(huán)境測(cè)試要求時(shí),既可以著手選用所需的基板,鍍膜材料及膜數(shù)與厚度設(shè)計(jì)。設(shè)計(jì)開(kāi)始可以從標(biāo)準(zhǔn)膜系著手,例如高反射鏡不管波寬大小,開(kāi)始我們一定是以四分之一波膜堆為設(shè)計(jì)基礎(chǔ),倘若是截止濾光片,則應(yīng)以對(duì)稱膜堆為設(shè)計(jì)基礎(chǔ)。當(dāng)初始設(shè)計(jì)無(wú)法滿足要求時(shí),我們需要考慮商業(yè)軟件或自行設(shè)計(jì)電腦軟件來(lái)參與合成或優(yōu)化,設(shè)計(jì)好之后,即刻進(jìn)行制造成功率分析,亦看膜層厚度的誤差值的容許度,若是鍍膜機(jī)的精密度做不到,則要修改設(shè)計(jì),重新分析直達(dá)合格為止。 3J [P(G>Q  
    透明塑料基板質(zhì)輕價(jià)廉,而且容易成型為非球面透鏡,被廣泛采用在光學(xué)系統(tǒng)中,如眼睛鏡片、相機(jī)透鏡、手機(jī)鏡頭、及顯示器面板,如OLED,近眼顯示應(yīng)用。但塑性及軟性基板的低密度致使其具有吸水性,從而使薄膜與基板的附著性不佳。再者這些塑料基板比較柔軟、容易刮傷、需要鍍上硬膜保護(hù)。因此塑料透鏡的鍍膜除了抗反射,還要兼具免受刮傷的保護(hù)。本課程會(huì)從這些方面重點(diǎn)闡述塑料基底的鍍制工藝及其物理特性。[/td][/tr][tr][td=2,1][/td][/tr][tr][td=2,1]課程大綱:[/td][/tr][tr][td=1,1,554] @B1rtw6  
    1. Essential Macleod軟件介紹 s2d;601*b  
    1.1 介紹軟件 YjsaTdZ!&  
    1.2 運(yùn)行程序 #b{otc)  
    1.3 創(chuàng)建一個(gè)簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì) .JH3,L"S^  
    1.4 繪圖和制表來(lái)表示性能 ^@tn+'.  
    1.5 3D繪圖-用兩個(gè)變量繪圖表示性能 }~A-ELe:  
    1.6 創(chuàng)建一個(gè)默認(rèn)設(shè)計(jì) 0"<g g5  
    1.7 文件位置 "b} ^ xy  
    1.8 通過(guò)剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù) l~uRZLx  
    1.9 約定-程序中使用的各種術(shù)語(yǔ)的定義 q WP1i7]=/  
    1.10厚度(物理厚度,光學(xué)厚度[FWOT,QWOT],幾何厚度) .[CXW2k  
    1.11 單位定義 bggSYhJ?\#  
    1.12 軟件如何進(jìn)行數(shù)據(jù)插值  Q.cxen  
    1.13 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) n*-#VKK^  
    1.14 特定設(shè)計(jì)的公式技術(shù) &#d;dcLe  
    1.15 交互式繪圖 3K54:  
    2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ) ) d\Se9!  
    2.1 介質(zhì)和波 l "d&Sgnj  
    2.2 垂直入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 gp$+Qd  
    2.3 傾斜入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 8LiRZ"  
    2.4 后表面對(duì)光學(xué)薄膜特性的影響 q4U?}=PD  
    2.5 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)理論 i{ %~&!  
    3. 理論技術(shù) a+J :1'  
    3.1 參考波長(zhǎng)與g * y`^Fc  
    3.2 四分之一規(guī)則 ty7a&>G  
    3.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖 I5 [r-r  
    3.4 斜入射光學(xué)導(dǎo)納 SYl :X   
    3.5 對(duì)稱周期 }F@`A?k  
    4. 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì) &jg,8  
    4.1 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)的進(jìn)展 <Q