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    [培訓(xùn)]黌論訊稷2021年度線下課程（2021年7月-9月） [復(fù)制鏈接]

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    Essential Macleod基礎(chǔ)實(shí)驗(yàn)（1場(chǎng)次/1年）
    課程編號(hào)CS210053課程類別理論與實(shí)踐
    課程收費(fèi)3600時(shí) 間2021年7月1日（四）-2日（五）共2天
    地 點(diǎn)黌論上海培訓(xùn)室講 師訊技光電工程師
    課程簡(jiǎn)介介紹電磁場(chǎng)的基本性質(zhì)，光學(xué)薄膜系統(tǒng)的特性計(jì)算，Essential Macleod的導(dǎo)納圖解、自動(dòng)設(shè)計(jì)和評(píng)價(jià)函數(shù)的建立；增透膜及濾光片設(shè)計(jì)，增透膜在太陽能電池中的應(yīng)用（顏色、誤差、靈敏度分析及反演工程）。
    □VirtualLab Fusion中級(jí)操作培訓(xùn)（1場(chǎng)次/1年）
    課程編號(hào)CS210054課程類別軟件操作
    課程收費(fèi)3600時(shí) 間2021年7月5日（一）-6日（二）共2天
    地 點(diǎn)黌論上海培訓(xùn)室講 師訊技光電高級(jí)工程師
    課程簡(jiǎn)介本課程以操作培訓(xùn)為主，主要針對(duì)已有一定使用經(jīng)驗(yàn)的VirtualLab Fusion 用戶，通過構(gòu)建各類光學(xué)系統(tǒng)，如混合成像系統(tǒng)、光束整形系統(tǒng)、干涉測(cè)量系統(tǒng)以及激光傳輸系統(tǒng)等，來掌握VirtualLab Fusion內(nèi)的建模和仿真方法，并基于軟件提供的各種評(píng)價(jià)函數(shù)對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行分析和優(yōu)化，同時(shí)，課程中也會(huì)包含跨平臺(tái)仿真以及簡(jiǎn)單的編程應(yīng)用培訓(xùn)。
    □光束整形（1場(chǎng)次/1年）
    課程編號(hào)CS210055課程類別專題培訓(xùn)
    課程收費(fèi)3600時(shí) 間2021年7月8日（四）-9日（五）共2天
    地 點(diǎn)上海訊稷培訓(xùn)室講 師訊技光電高級(jí)工程師
    課程簡(jiǎn)介本課程主要介紹如何使用幾何光學(xué)整形方法和物理光學(xué)整形方法（IFTA）來進(jìn)行光束整形器的設(shè)計(jì)和優(yōu)化，其中包含整形原理的介紹、評(píng)價(jià)函數(shù)的定義及應(yīng)用以及后續(xù)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和公差分析等。
    □FRED中高級(jí)培訓(xùn)（1場(chǎng)次/1年）
    課程編號(hào)CS210056課程類別軟件操作
    課程收費(fèi)3600時(shí) 間2021年7月12日（一）-13日（二）共2天
    地 點(diǎn)上海訊稷培訓(xùn)室講 師訊技光電高級(jí)工程師
    課程簡(jiǎn)介要求有FRED軟件基礎(chǔ)或參加過FRED MPC基礎(chǔ)操作線上課程。課程內(nèi)容：調(diào)用EXCEL進(jìn)行公差分析、調(diào)用Matlab實(shí)現(xiàn)快速計(jì)算、批處理、PST自動(dòng)計(jì)算、熱輻射系數(shù)計(jì)算、復(fù)合散射模型的建立（紋理、黑漆、顆粒污染）、一鍵鬼像分析、偏振散射、3片式5X無焦望遠(yuǎn)鏡頂點(diǎn)與孔徑大小的迅速確定、人眼屈光度及光瞳調(diào)節(jié)、CAD模型表面位置的快速確認(rèn)。
    □LCD顯示面板設(shè)計(jì)分析軟件的應(yīng)用（1場(chǎng)次/1年）
    課程編號(hào)CS210057課程類別理論與實(shí)踐
    課程收費(fèi)3600時(shí) 間2021年7月15日（四）-16日（五）共2天
    地 點(diǎn)黌論上海培訓(xùn)室講 師訊技光電工程師
    課程簡(jiǎn)介TechWiz LCD和TX系列軟件是全面的LCD模擬分析軟件，可以模擬LCD的各項(xiàng)光電效應(yīng)，其中包括顏色分析，RC提取，液晶動(dòng)力學(xué)分析等。通過本次課程，學(xué)員可以了解到TechWiz LCD和TX系列軟件在液晶模擬方面強(qiáng)大的模擬分析能力，以及學(xué)會(huì)軟件的基本操作。
    □LITESTAR 4D操作教程（1場(chǎng)次/1年）
    課程編號(hào)CS210058課程類別軟件操作
    課程收費(fèi)3000時(shí) 間2021年7月20日（二）-21日（三）共2天
    地 點(diǎn)黌論上海培訓(xùn)室講 師訊技光電工程師
    課程簡(jiǎn)介 wP*Z/}Uum+  
    LITESTAR 4D 是一款照明設(shè)計(jì)系統(tǒng)套裝，它能夠在全面的滿足照明產(chǎn)業(yè)鏈上不同客戶群的需求，包括制造商，照明設(shè)計(jì)師，企業(yè)以及大型上市公司，零售商和批發(fā)商。它將照明項(xiàng)目各個(gè)階段的管理和數(shù)據(jù)處理功能集成到5個(gè)模塊中，軟件可以處理從燈具數(shù)據(jù)到產(chǎn)品數(shù)據(jù)表的各種數(shù)據(jù)。本課程通過對(duì)案例解析和復(fù)現(xiàn)，讓大家熟悉掌握LITESTAR 4D軟件的使用技巧，希望對(duì)廣大照明人有所助益。
    □Macleod薄膜專題設(shè)計(jì)中高級(jí)班（1場(chǎng)次/1年）
    課程編號(hào)CS210059課程類別軟件操作
    課程收費(fèi)4500時(shí) 間2021年7月23日（五）-25日（日）共3天
    地 點(diǎn)黌論上海培訓(xùn)室講 師訊技光電高級(jí)工程師&資深顧問
    課程簡(jiǎn)介當(dāng)收到需求者的光學(xué)規(guī)格及非光學(xué)規(guī)格如環(huán)境測(cè)試要求時(shí)，既可以著手選用所需的基板，鍍膜材料及膜數(shù)與厚度設(shè)計(jì)。設(shè)計(jì)開始可以從標(biāo)準(zhǔn)膜系著手，例如高反射鏡不管波寬大小，開始我們一定是以四分之一波膜堆為設(shè)計(jì)基礎(chǔ)，倘若是截止濾光片，則應(yīng)以對(duì)稱膜堆為設(shè)計(jì)基礎(chǔ)。當(dāng)初始設(shè)計(jì)無法滿足要求時(shí)，我們需要考慮商業(yè)軟件或自行設(shè)計(jì)電腦軟件來參與合成或優(yōu)化，設(shè)計(jì)好之后，即刻進(jìn)行制造成功率分析，亦看膜層厚度的誤差值的容許度，若是鍍膜機(jī)的精密度做不到，則要修改設(shè)計(jì)，重新分析直達(dá)合格為止。 透明塑料基板質(zhì)輕價(jià)廉，而且容易成型為非球面透鏡，被廣泛采用在光學(xué)系統(tǒng)中，如眼睛鏡片、相機(jī)透鏡、手機(jī)鏡頭、及顯示器面板，如OLED，近眼顯示應(yīng)用。但塑性及軟性基板的低密度致使其具有吸水性，從而使薄膜與基板的附著性不佳。再者這些塑料基板比較柔軟、容易刮傷、需要鍍上硬膜保護(hù)。因此塑料透鏡的鍍膜除了抗反射，還要兼具免受刮傷的保護(hù)。本課程會(huì)從這些方面重點(diǎn)闡述塑料基底的鍍制工藝及其物理特性。
    □雜散光分析與控制技術(shù)（1場(chǎng)次/1年）
    課程編號(hào)CS210060課程類別工程應(yīng)用
    課程收費(fèi)4200（老師&博士生：2800 RMB；學(xué)生：1800RMB）時(shí) 間2021年7月28日（三）-30日（五）共3天
    地 點(diǎn)上海訊稷培訓(xùn)室講 師訊技光電高級(jí)工程師
    課程簡(jiǎn)介 ;\N*iN#K  
    雜光理論和雜光問題研究要從以下幾個(gè)方面探索：雜散光輻射理論，系統(tǒng)雜光測(cè)試，雜光分析與軟件，BSDF數(shù)據(jù)，雜光抑制設(shè)計(jì)等。 本課程介紹了空間光學(xué)系統(tǒng)的雜散光來源，以及對(duì)紅外光學(xué)系統(tǒng)成像質(zhì)量的影響，在簡(jiǎn)化分析上，討論了雜散光分析的物理模型，利用已有的光學(xué)系統(tǒng)模型討論了雜散光計(jì)算和分析方法。用具體的模型說明雜散光分析和計(jì)算假設(shè)條件，為以后利用軟件進(jìn)行雜散光分析打下基礎(chǔ)。仿真實(shí)例：RC望遠(yuǎn)鏡、可見紅外CT光譜儀的雜散光分析，具體會(huì)突出冷反射計(jì)算的公式積分法，在以往的方法中我們通過計(jì)算點(diǎn)列圖來計(jì)算，但存在諸多的缺陷，如環(huán)境與鏡筒溫度變化、計(jì)算量大等缺點(diǎn)，我們從實(shí)際的積分公式出發(fā)。另外我們會(huì)公布我們新開發(fā)的散射模型庫。
    □激光器設(shè)計(jì)及應(yīng)用（1場(chǎng)次/1年）
    課程編號(hào)CS210061課程類別工程應(yīng)用
    課程收費(fèi)3600時(shí) 間2021年7月31日（六）-8月1日（日）共2天
    地 點(diǎn)上海訊稷培訓(xùn)室講 師訊技光電工程師&資深顧問
    課程簡(jiǎn)介 P_U-R%f  
    本次課程內(nèi)容以諧振腔分析為基礎(chǔ)，綜合運(yùn)用多種軟件實(shí)現(xiàn)對(duì)激光器增益、熱效應(yīng)以及動(dòng)態(tài)特性的模擬和分析。并在上述內(nèi)容的基礎(chǔ)上介紹激光束的整形以及傳輸。
    □現(xiàn)代光學(xué)理論體系概述及工業(yè)應(yīng)用（1場(chǎng)次/1年）
    課程編號(hào)CS210062課程類別理論與實(shí)踐
    課程收費(fèi)3600（VirtualLab Fusion 軟件用戶9折）時(shí) 間2021年8月5日（四）-6日（五）共2天
    地 點(diǎn)黌論上海培訓(xùn)室講 師鐘慧瑩女士（德國(guó)Friedrich-Schiller-Universitat Jena）
    課程簡(jiǎn)介 |e\%pfZ   
    本課程基于物理光學(xué)仿真設(shè)計(jì)軟件VirtualLab Fusion。光學(xué)設(shè)計(jì)是現(xiàn)有工業(yè)創(chuàng)新應(yīng)用中的關(guān)鍵技能，對(duì)于光學(xué)設(shè)計(jì)師來講，全面的現(xiàn)代光學(xué)理論體系架構(gòu)，熟練掌握方便的操作工具對(duì)于創(chuàng)新思維，項(xiàng)目開發(fā)，系統(tǒng)設(shè)計(jì)等工作至關(guān)重要。本課程闡述VirtualLab Fusion背后的科學(xué)家基于大量研究以及工業(yè)光學(xué)項(xiàng)目總結(jié)的光學(xué)理論體系，并輔以虛擬仿真設(shè)計(jì)實(shí)驗(yàn)，熟悉軟件操作過程。
    □微納結(jié)構(gòu)的矢量成像（1場(chǎng)次/1年）
    課程編號(hào)CS210063課程類別專題培訓(xùn)
    課程收費(fèi)3600時(shí) 間2021年8月7日（六）-8月8日（日）共2天
    地 點(diǎn)黌論上海培訓(xùn)室講 師史瑞先生（德國(guó) Friedrich-Schiller-Universitat Jena）
    課程簡(jiǎn)介 $(U|JR@  
    近年來，在材料學(xué)和生物學(xué)領(lǐng)域，對(duì)于微納結(jié)構(gòu)的成像，例如納米小球，亞波長(zhǎng)光柵，蛋白質(zhì)分子等等，越來越受到極大關(guān)注。而對(duì)于微納結(jié)構(gòu)的成像，需要用到高數(shù)值孔徑光學(xué)顯微鏡。由于微納結(jié)構(gòu)以及高數(shù)值孔徑顯微鏡有著很大的矢量特性，所以傳統(tǒng)的基于標(biāo)量的成像理論已經(jīng)不再適用。因此，對(duì)整個(gè)顯微鏡系統(tǒng)的矢量成像分析顯得越來越迫切。 3I+pe;  
    在本次課程中，我們首先介紹基于Debye-wolf 理論，對(duì)于偶極子（Dipole source）的理想高數(shù)值孔徑的矢量點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)的計(jì)算（vectorial PSF）。其次，我們會(huì)根據(jù)真實(shí)的顯微鏡系統(tǒng)來對(duì)Dipole Source 成像，分析矢量點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)以及雙螺旋（double helix）點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù), 并分析不同光學(xué)系統(tǒng)的相差， 例如尼康（Nikon）,奧林巴斯（Olympus）,蔡司（Zeiss）等，以及實(shí)驗(yàn)中遇到的非準(zhǔn)直等誤差對(duì)結(jié)果的影響。再次我們會(huì)介紹嚴(yán)格麥克斯韋方程組解法，傅里葉模態(tài)法，用來對(duì)微納結(jié)構(gòu)做矢量模擬。最后，我們會(huì)結(jié)合透鏡系統(tǒng)和微納結(jié)構(gòu)，講解一些具體的顯微鏡系統(tǒng)應(yīng)用及其成像質(zhì)量分析，包括阿貝成像理論的實(shí)驗(yàn)，紫外顯微鏡對(duì)光柵的觀察，晶圓級(jí)光學(xué) （Wafer Level Optics) 對(duì)準(zhǔn)裝置的模擬，共聚焦掃描顯微鏡 (Scanning Confocal Microscopy) 成像原理的探究，傅里葉顯微鏡（Fourier Microscopy）對(duì)單分子的矢量成像，單光子結(jié)構(gòu)光照明顯微鏡（Structured Illumination Microscopy）矢量照明分析，雙光子（Two-photon）結(jié)構(gòu)光照明顯微鏡的時(shí)域聚焦（temporal focusing）特性。  %3j5Q   
    基于上述真實(shí)顯微鏡系統(tǒng)應(yīng)用，我們還會(huì)和學(xué)員共同利用VirtualLab Fusion完成模擬已經(jīng)像差和物理原理的分析。
    □衍射光學(xué)元件的建模與設(shè)計(jì)（1場(chǎng)次/1年）
    課程編號(hào)CS210064課程類別專題培訓(xùn)
    課程收費(fèi)4500（訊稷VirtualLab Fusion 軟件用戶9折）時(shí) 間2021年8月10日（二）-12日（四）共3天
    地 點(diǎn)黌論上海培訓(xùn)室講 師鐘慧瑩女士（德國(guó) Friedrich-Schiller-Universitat Jena）
    課程簡(jiǎn)介 r8rR