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UID：317649
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- 注冊時間2020-06-19
- 最后登錄2025-02-11
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在光學(xué)設(shè)計中，適當(dāng)?shù)乜紤]不良反應(yīng)是很重要的。例如，可能發(fā)生在每一個光學(xué)裝置非鍍膜表面上的多次反射所引發(fā)的鬼像效應(yīng)，而且其對系統(tǒng)性能的影響也應(yīng)該被檢測。最近發(fā)布的非時序擴展，VirtualLab可用于方便地分析影響，正如前面提到的鬼像。通過靈活的配置每個表面的通道，以及其他數(shù)值參數(shù)，可以調(diào)整手中系統(tǒng)的模擬，以便分析不同的情況和改變準(zhǔn)確度。 [Hn4&PET e+z_Rj%Y;I 研究準(zhǔn)直系統(tǒng)中的鬼像影響 ,H3~mq] 在任何光學(xué)系統(tǒng)中，總有造成鬼像的雜散光。雜散光可能有不同的起源，如不良反射和散射。以大孔徑激光二極管的準(zhǔn)直透鏡系統(tǒng)為例。在VirtualLab中由非時序追跡引擎研究表面之間的反射，多次反射可能導(dǎo)致平行光束的干涉條紋。 zY<=r.m4
Xi'y-cV
^ +jFcq:`#UG 準(zhǔn)直光束中由多次反射造成的干涉條紋 R4<
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