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ASML研發(fā)下一代EUV光刻機(jī):分辨率提升70% 逼近1nm極限

發(fā)布:cyqdesign 2020-03-16 22:11 閱讀:9655
EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺(tái),創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)在2022年開始出貨。根據(jù)ASML之前的報(bào)告,去年他們出貨了26臺(tái)EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)2020年交付35臺(tái)EUV光刻機(jī),2021年則會(huì)達(dá)到45臺(tái)到50臺(tái)的交付量,是2019年的兩倍左右。 d iL