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ASML研發(fā)下一代EUV光刻機:分辨率提升70% 逼近1nm極限

發(fā)布:cyqdesign 2020-03-16 22:11 閱讀:9669
EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機,預(yù)計在2022年開始出貨。根據(jù)ASML之前的報告,去年他們出貨了26臺EUV光刻機,預(yù)計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達(dá)到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。 ' PmBNT  
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目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計,維護(hù)更加便捷,平均維修時間將從48小時縮短到8-10小時,支持7nm、5nm。 d,t'e?  
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此外,NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH(每小時處理晶圓數(shù))提升到了175WPH。 'Ub\8<HfJU  
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