半導(dǎo)體術(shù)語解釋 (八)
發(fā)布:探針臺
2020-01-09 11:44
閱讀:3275
244) Uniformity 均勻性 xtLP4VL (最大值-最小值)/(2*平均值),有兩種均勻性:一種是一片Wafer的均勻性(within wafer),測得五個點,然后得到最大值最小值和平均值,再安公式計算。另一種是Wafe之間的均勻性(wafer to wafer),同樣測得最大值和最小值和平均值再計算均勻性。 P|]r*1^5 245) USG (Undoped SiO2) NK(_ &.F
即沒有攙雜的二氧化硅,LPCVD制得,一般沉積在BPSG下面,以防止BPSG中的P元素滲透到Si表面,影響組件的特性。 ;oDr8a<A 246) Up Time 使用率
|