芯片測(cè)試術(shù)語介紹CP、FT、WAT CP是把壞的Die挑出來,可以減少封裝和測(cè)試的成本?梢愿苯拥闹Wafer 的良率。FT是把壞的chip挑出來;檢驗(yàn)封裝的良率。 現(xiàn)在對(duì)于一般的wafer工藝,很多公司多把CP給省了;減少成本。 CP對(duì)整片Wafer的每個(gè)Die來測(cè)試 而FT則對(duì)封裝好的Chip來測(cè)試。 CP Pass 才會(huì)去封裝。然后FT,確保封裝后也Pass。 WAT是Wafer Acceptance Test,對(duì)專門的測(cè)試圖形(test key)的測(cè)試,通過電參數(shù)來監(jiān)控各步工藝是否正常和穩(wěn)定; CP是wafer level的chip probing,是整個(gè)wafer工藝,包括backgrinding和backmetal(if need),對(duì)一些基本器件參數(shù)的測(cè)試,如vt(閾值電壓),Rdson(導(dǎo)通電阻),BVdss(源漏擊穿電壓),Igss(柵源漏電流),Idss(漏源漏電流)等,一般測(cè)試機(jī)臺(tái)的電壓和功率不會(huì)很高; FT是packaged chip level的Final Test,主要是對(duì)于這個(gè)(CP passed)IC或Device芯片應(yīng)用方面的測(cè)試,有些甚至是待機(jī)測(cè)試; Pass FP還不夠,還需要做process qual 和product qual CP 測(cè)試對(duì)Memory來說還有一個(gè)非常重要的作用,那就是通過MRA計(jì)算出chip level 的Repair address,通過Laser Repair將CP測(cè)試中的Repairable die 修補(bǔ)回來,這樣保證了yield和reliability兩方面的提升。 CP是對(duì)wafer進(jìn)行測(cè)試,檢查fab廠制造的工藝水平 FT是對(duì)package進(jìn)行測(cè)試,檢查封裝廠制造的工藝水平 對(duì)于測(cè)試項(xiàng)來說,有些測(cè)試項(xiàng)在CP時(shí)會(huì)進(jìn)行測(cè)試,在FT時(shí)就不用再次進(jìn)行測(cè)試了,節(jié)省了FT測(cè)試時(shí)間;但是有些測(cè)試項(xiàng)必須在FT時(shí)才進(jìn)行測(cè)試(不同的設(shè)計(jì)公司會(huì)有不同的要求) 一般來說,CP測(cè)試的項(xiàng)目比較多,比較全;FT測(cè)的項(xiàng)目比較少,但都是關(guān)鍵項(xiàng)目,條件嚴(yán)格。但也有很多公司只做FT不做CP(如果FT和封裝yield高的話,CP就失去意義了)。 在測(cè)試方面,CP比較難的是探針卡的制作,并行測(cè)試的干擾問題。FT相對(duì)來說簡單一點(diǎn)。還有一點(diǎn),memory測(cè)試的CP會(huì)更難,因?yàn)橐?/font>redundancy analysis,寫程序很麻煩。 CP在整個(gè)制程中算是半成品測(cè)試,目的有2個(gè),1個(gè)是監(jiān)控前道工藝良率,另一個(gè)是降低后道成本(避免封裝過多的壞芯片),其能夠測(cè)試的項(xiàng)比FT要少些。最簡單的一個(gè)例子,碰到大電流測(cè)試項(xiàng)CP肯定是不測(cè)的(探針容許的電流有限),這項(xiàng)只能在封裝后的FT測(cè)。不過許多項(xiàng)CP測(cè)試后FT的時(shí)候就可以免掉不測(cè)了(可以提高效率),所以有時(shí)會(huì)覺得FT的測(cè)試項(xiàng)比CP少很多。 應(yīng)該說WAT的測(cè)試項(xiàng)和CP/FT是不同的。CP不是制造(FAB)測(cè)的! 而CP的項(xiàng)目是從屬于FT的(也就是說CP測(cè)的只會(huì)比FT少),項(xiàng)目完全一樣的;不同的是卡的SPEC而已;因?yàn)榉庋b都會(huì)導(dǎo)致參數(shù)漂移,所以CP測(cè)試SPEC收的要比FT更緊以確保最終成品FT良率。還有相當(dāng)多的DH把wafer做成幾個(gè)系列通用的die,在CP是通過trimming來定向確定做成其系列中的某一款,這是解決相似電路節(jié)省光刻版的較佳方案;所以除非你公司的wafer封裝成device是唯()一的,且WAT良率在99%左右,才會(huì)盲封的。 據(jù)我所知盲封的DH很少很少,風(fēng)險(xiǎn)實(shí)在太大,不容易受控。 WAT:wafer level 的管芯或結(jié)構(gòu)測(cè)試 CP:wafer level 的電路測(cè)試含功能 FT:device level 的電路測(cè)試含功能 CP=chip probing FT=Final Test CP 一般是在測(cè)試晶圓,封裝之前看,封裝后都要FT的。不過bump wafer是在裝上錫球,probing后就沒有FT FT是在封裝之后,也叫“終測(cè)”。意思是說測(cè)試完這道就直接賣去做application。 CP用prober,probe card。FT是handler,socket CP比較常見的是room temperature=25度,FT可能一般就是75或90度 CP沒有QA buy-off(質(zhì)量認(rèn)證、驗(yàn)收),FT有 CP兩方面 1. 監(jiān)控工藝,所以呢,覺得probe實(shí)際屬于FAB范疇 2. 控制成本。Financial fate。我們知道FT封裝和測(cè)試成本是芯片成本中比較大的一部分,所以把次品在probe中reject掉或者修復(fù),最有利于控制成本 FT: 終測(cè)通常是測(cè)試項(xiàng)最多的測(cè)試了,有些客戶還要求3溫測(cè)試,成本也最大。 至于測(cè)試項(xiàng)呢, 1. 如果測(cè)試時(shí)間很長,CP和FT又都可以測(cè),像trim項(xiàng),加在probe能顯著降低時(shí)間成本,當(dāng)然也要看客戶要求。 2. 關(guān)于大電流測(cè)試呢,FT多些,但是我在probe也測(cè)過十幾安培的功率mosfet,一個(gè)PAD上十多個(gè)needle。 3. 有些PAD會(huì)封裝到device內(nèi)部,在FT是看不到的,所以有些測(cè)試項(xiàng)只能在CP直接測(cè),像功率管的GATE端漏電流測(cè)試Igss CP測(cè)試主要是挑壞die,修補(bǔ)die,然后保證die在基本的spec內(nèi),function well。 FT測(cè)試主要是package完成后,保證die在嚴(yán)格的spec內(nèi)能夠function。 CP的難點(diǎn)在于,如何在最短的時(shí)間內(nèi)挑出壞die,修補(bǔ)die。 FT的難點(diǎn)在于,如何在最短的時(shí)間內(nèi),保證出廠的Unit能夠完成全部的Function。 |