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離子刻蝕RIE干法刻蝕

發(fā)布:探針臺 2019-07-31 16:22 閱讀:1408
主要用途 |!|^ v  
!2\ r LN  
器件表面圖形的刻蝕。 2A`A\19t  
[sV"ws  
性能參數(shù) -W{DxN1  
"|Fy+'5}  
a)可實現(xiàn)各向異性刻蝕,工藝穩(wěn)定,重復性好; MiT}L  
nL@KX>  
b)射頻功率源:600瓦,頻率13.56MHz; GY3