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離子刻蝕RIE干法刻蝕

發(fā)布：探針臺 2019-07-31 16:22 閱讀：1410
主要用途 9&2Vm;F_  
v9D22,K-  
器件表面圖形的刻蝕。 )6w}<W*1E  
Ezi-VGjr]  
性能參數(shù) q-rB2  
mCWhUBghR  
a)可實現(xiàn)各向異性刻蝕，工藝穩(wěn)定，重復(fù)性好； "n: