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離子刻蝕RIE干法刻蝕

發(fā)布:探針臺(tái) 2019-07-31 16:22 閱讀:1409
主要用途 kr3ZqMfeI  
=%a.C(0&G  
器件表面圖形的刻蝕。 &P\T{d2"  
"MyYu}AD  
性能參數(shù) C ZJW`c/  
dZZHk  
a)可實(shí)現(xiàn)各向異性刻蝕,工藝穩(wěn)定,重復(fù)性好; j*CnnM#n  
o}[wu:>yk  
b)射頻功率源:600瓦,頻率13.56MHz; ~