Zemax OpticStudio 19.4 現(xiàn)已發(fā)布！ ,|VLOY ^ 'bM= 在OpticStudio 19.4 中，ZPL編程界面新增了關鍵詞搜索
功能，ZOS-API中現(xiàn)已支持提取顏色
探測器、
材料庫以及幾何
圖像分析等分析數(shù)據(jù)，進一步擴展了OpticStudio編程的靈活性。在OS序列模式中新增加了CodeVTM文件導入工具，全面支持Binary 2和Zernike Fringe等面型的數(shù)據(jù)導入。此外在新版本中進一步擴展了格點矢高
優(yōu)化 (Grid Optimization) 工具的實用性。
#V/{DPz ySiZ@i4 全新授權管理器
*?1 \S^7R OpticStudio 19.4 推出全新授權管理器，極大地改進了授權的激活、轉移、管理和故障排除等相關進程。全新授權管理器具有便捷的選項卡，將根據(jù)您所需要進行的操作，直接提供給您相關性最高的
信息。您可以點擊合適的列標題排列您的授權，例如按授權
序列號、服務期日期或產(chǎn)品類型進行排列。當按照產(chǎn)品類型排列授權時，用戶可以簡單地選擇是否與某一OpticStudio或LensMechanix授權進行交互。與此同時，故障排除選項卡可快速將用戶鏈接至恰當?shù)馁Y源內(nèi)，極大地加速了授權問題解決的操作。
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C|Gk} r7_%t_O|IL ZPL宏編輯器內(nèi)搜索功能 mUP!jTF 如今，您可以通過ZPL宏編輯器內(nèi)的文本搜尋按鈕，便捷地進行ZPL腳本語句搜索。在加速您對較長的宏
文件編寫和編輯的同時，方便了您對拼寫錯誤的查找。
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