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[求助]鍍完膜后發(fā)霧 [復制鏈接]

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離線liuwenbo1991

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2018-10-17

基材：SI片膜料：GE+ZNS 鍍膜波段近紫外到14um，電子槍蒸發(fā)鍍膜，Mark II+離子源。鍍完膜后SI片發(fā)霧，通過調節(jié)鍍膜工藝（包括鍍膜溫度，材料沉積速率，離子源參數(shù)等等后依然發(fā)霧，哪位大咖有遇到過這種問題，幫忙解惑，謝謝

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離線rexchou

發(fā)帖: 209

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只看該作者 1樓發(fā)表于: 2018-10-19

之前遇過發(fā)霧情況,是離子源被汙染到.
請參考~

離線ouyuu

發(fā)帖: 557

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只看該作者 2樓發(fā)表于: 2018-10-20

我覺得可能是MARKii離子源能量不夠造成的。
MARK II離子源的特性是電流很大，電壓不高。
離子束的密度（電流）夠了，但是離子速度（電壓）不夠的話，
結晶大小還是沒法改變。