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2022-04-11 12:31 |
1.空心陰極離子鍍原理 #VynADPs`o
在本底真空為高真空的條件下，由陰極中通入氬器氣（1-10-2） 5Sx.'o$
在陰極與輔助陽極之間加上引弧電壓，使氬氣發(fā)生輝光放電，在空心陰極內產(chǎn)生低壓等離子體放電，陰極溫度升高到2300-2400K時，由冷陰極放電轉為熱陰極放電，開始熱電子發(fā)射，放電轉為穩(wěn)定狀態(tài)。通入反應氣體，可以制化合膜。 vXT>Dc2\!
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2.測控濺射工作原理 U *:E|'>
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先將真空室預抽至10-3Pa，然后通入氣體（如氬氣），氣壓為1-10 Pa時，給靶加負電壓，產(chǎn)生輝光放電，電子在電場正作用下加速飛向基片時，與氬原子碰撞，電離出Ar和另一個電子； Js /QL=,
轟擊靶材，由二次電子電離的 越來越多，不斷轟擊靶材；磁場改變電子的運動方向，以電磁場束縛和延長電子的運動軌跡，從而提高電子對工作氣體的電離幾率。 Aqo90(jffx
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3.多弧離子鍍工作原理 Cxra(!&
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其工作原理為冷陰極自持弧光放電，其物理基礎為場致發(fā)射。 uS7kkzt-x
被鍍材料接陰極，真空室接陽極，真空室抽為高真空時，引發(fā)電極啟動器，接觸拉開，此時，陰極與陽極之間形成穩(wěn)定的電弧放電，陰極表面布滿飛速游動的陰極斑，部分離子對陰極斑的轟擊使其變成點蒸發(fā)源，以若干個電弧蒸發(fā)源為核心的為多弧離子鍍。 5]~4 51
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4.電阻蒸發(fā)式鍍膜機 qrufnu5cC
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膜材即要鍍的材料放于蒸發(fā)舟中，置于真空室中，抽到一定真空時，通過電阻加熱膜材，使其蒸發(fā)，當蒸發(fā)分子的平均自由程大于蒸發(fā)源至基片的線性尺寸時，原子和分子從蒸發(fā)源中逸出后，到達基片形成膜。為了使膜厚均勻，可以利用電機帶動基片旋轉，并用膜厚儀控制膜厚，制出優(yōu)質膜。 ( $'5xPb
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5.E型槍工作原理 ?@CbaX~+K
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