光研吳婷婷 |
2016-11-30 14:55 |
zemax技術(shù)問題分享
ZEMAX學(xué)習(xí)指南:技術(shù)問題 s
*1%I$=@ 問題1: 如何將一均勻出光之點光源改為具有高斯能量分布之點光源? a'ODm6# 解答: |qsY0zx 您需在System->General的Aperture標(biāo)簽中,在Apodization Type的下拉式選單中,選擇Gaussian,而Apodization Factor為定義高斯的能量衰減因子。 q! U'DDEP 一般可依您的需求設(shè)1~4之間,不建議設(shè)罝大于4的值,因為這會造成采樣的光線數(shù)太少而無法計算出有意義的結(jié)果,您可參考Samples\Sequential\Interconnects\Ballcoupling.ZMX的ZEMAX例子檔。 EaGS}=qY5 7%4@* 問題 2:如何將點光源更改為面光源(直徑0.02mm之面光源)? LlG~aGhel 解答:
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hu 您需在System->General的Aperture標(biāo)簽中,在ApertureType的下拉式選單中,將Object Space NA改為Entrance Pupil Diameter,并在ApertureValue的欄中鍵入0.02,最后還需將OBJ的Thickness改為Infinity,表示光源為無窮遠(yuǎn)的平行光入射。 yLlAK,5P0o D?"TcA 問題 3:如果我想改變NA,那我需要改變那些設(shè)置? Aw *:5
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