| hhxxgg00 |
2014-08-19 09:55 |
點衍射干涉儀檢測技術研究
高精密儀器與設備的發(fā)展進步，對我國未來科學技術的發(fā)展具有重要意義，而精密光學元件的加工，往往是生產此類儀器與設備的核心技術。隨著高精密儀器與設備的快速發(fā)展，光學元件面形誤差的要求也越來越嚴苛。傳統(tǒng)的面形檢測設備，如邁克爾遜干涉儀、斐索球面干涉儀，其參考波面由參考元件反射形成，檢測精度必然受制于參考元件的面形精度，很難滿足超高精度面形檢測的要求。本文研究的點衍射干涉儀檢測技術，結構簡單，采用針-孔衍射產生參考波，從而擺脫了參考元件面形對檢測精度的限制，極大地減少了系統(tǒng)誤差，是超高精度檢測新的發(fā)展方向。本論文的主要工作任務是研究點衍射干涉儀檢測技術的關鍵理論與技術問題，進一步發(fā)展應用于面形測量的點衍射干涉檢測技術。
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