春頭 |
2014-06-13 22:23 |
光學(xué)元件拋光亞表面損傷實(shí)驗(yàn)研究
摘要:設(shè)計(jì)光學(xué)元件拋光亞表面損傷檢測(cè)實(shí)驗(yàn),使用原子力顯微鏡(AFM)檢測(cè)傳統(tǒng)拋光亞表面塑性劃痕與磁流變拋光亞表面塑性劃痕的最大深度,通過(guò)比較驗(yàn)證磁流變拋光對(duì)亞表面塑性劃痕的抑制能力;同時(shí)利用二次離子質(zhì)譜儀的深度剖析功能檢測(cè)磁流變拋光石英樣件后表面水解層的深度,指出磁流變拋光屬于低損傷性拋光技術(shù)。 1HJ:
?] ~uQ*u.wi 關(guān)鍵詞:磁流變拋光;傳統(tǒng)拋光;亞表面損傷
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