| knight627 |
2006-06-20 01:17 |
關(guān)于鍍膜產(chǎn)品超聲波清洗的問題
最近確定超聲波工藝條件，發(fā)現(xiàn)洗新光胚的時(shí)候能清洗干凈,半成品(2面鍍膜只鍍呢一面)也能洗干凈,但成品(2面均已鍍膜)卻很難洗干凈,主要是一些灰塵點(diǎn),很難讓我理解.希望大家討論討論超聲波清洗成品的問題.我自己的見解是: ,lly=OhKb
1.水質(zhì). (矛盾之出水質(zhì)出問題,新光胚和半成品也應(yīng)該洗不干凈) zu
Jl #3YP
2.鍍膜后,表面不光滑,影響超聲波清洗.(矛盾半成品沒問題) %Pb 5PIk4
3.洗的成品膜層中含MGF2吸水后,水中雜質(zhì)進(jìn)入膜層,影響清洗.(矛盾半成品沒問題) ~CB6+t>
還有成品放置(不垂直放入清洗夾具)的問題以及最后烘干室熱風(fēng)的問題,但由于新光胚和半成品沒問題很讓人郁悶. r&|-6OQZZ
請(qǐng)大家?guī)兔Ψ治龇治?是不是含MGF2的成品不能用超聲波清洗,現(xiàn)在上頭催的急,各位發(fā)表下看法,幫幫忙,靜侯佳音,以及各位有什么好的經(jīng)驗(yàn)講講.
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