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光行天下 -> 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì),工藝與設(shè)備 -> 關(guān)于Ta2O5用于三層增透膜時(shí) [點(diǎn)此返回論壇查看本帖完整版本]

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dede	2012-02-15 23:13
關(guān)于Ta2O5用于三層增透膜時(shí) Ta2O5用于三層增透膜時(shí)，零件發(fā)黃，吸收大，其鍍時(shí)參數(shù)是250度，速度為3埃/秒，充氧1E-2，2E-2，均試過，請(qǐng)教過很多高手，好象均無有良策？

laohu0504	2012-10-16 13:15
解決問題了沒有呢? 可以聯(lián)絡(luò)laohu0504@163.com 6Tg'9\|g

dede	2012-10-23 00:43
現(xiàn)在不用TA2O5了，用H4代替 v%)=!T, \]qwD m/

jiangguang	2013-06-15 08:50
什么高手啊都加離子源 A&`7 l5~X

crl0129	2013-11-21 13:58
學(xué)習(xí)一下！！

dididida	2019-11-05 11:54
大蝦，還在嗎？我最近也是做了一個(gè)用SIO2+TA2O5 9層結(jié)構(gòu)并且最外層加MGF2的增透膜系，加熱工藝，溫度270，速率2.5-3.5，也是遇到了380nm附近一段吸收很大的問題，想請(qǐng)教一下你之前的這個(gè)問題是有解決嗎？可以給我點(diǎn)意見嗎

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