| chenchao |
2011-12-18 16:20 |
中頻非平衡磁控濺射制備 Ti-N-C膜
中頻非平衡磁控濺射制備 Ti-N-C膜摘要：采用霍爾離子源輔助中頻非平衡磁控濺射技術(shù)，通過改變工作氣氛、 偏壓模式、 濺射電流以及輔助離子束電流，在不銹鋼材料基體上制備了 Ti/ TiN/ Ti (C ,N) 硬質(zhì)耐磨損膜層。對薄膜的顏色、 晶體結(jié)構(gòu)、 膜基結(jié)合力等性能進行了檢測分析。 結(jié)果表明:膜層的顏色對工作氣氛非常敏感，反應濺射中工作氣氛的微小變化會引起表面膜層顏色很大的變化，在正常的反應氣體進氣量范圍內(nèi)和較小的基體偏壓下 ，薄膜的晶體結(jié)構(gòu)沒有明顯的擇優(yōu)取向，但是反應氣體的過量通入會使薄膜的晶體結(jié)構(gòu)出現(xiàn)晶面擇優(yōu)取向趨勢，非平衡磁控濺射成膜技術(shù)對薄膜晶體結(jié)構(gòu)的擇優(yōu)取向影響并不是很大，在鍍膜過程中施加霍爾電流，可以有效地增加膜基結(jié)合力。 7~SwNt,
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