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光行天下 -> 光學(xué)薄膜設(shè)計,工藝與設(shè)備 -> 在反應(yīng)濺射鋁的過程中的打弧問題 [點此返回論壇查看本帖完整版本] [打印本頁]

余登峰 2011-11-27 13:43

在反應(yīng)濺射鋁的過程中的打弧問題

在反應(yīng)濺射鋁的過程中的打弧問題,看到的共享一下。
zmfu77 2011-12-16 14:14
如果采用的是直流磁控濺射設(shè)備,應(yīng)該有以下幾個原因: @X/-p3729  
1、靶的兩端污染嚴(yán)重,導(dǎo)電性能差,積累大量電荷,造成對真空腔體放電打火。 N7s9"i  
2、靶表面污染或有氧化層 !P6y_Frpe  
3、靶的兩端有清微漏水、漏氣的情況 <dk9n}y<,  
4、電源滅弧性能差
guangbao 2014-03-09 23:28
看看隱藏了什么? 2NL|_W/  
caiqiwen 2014-11-06 21:55
回復(fù)看一下附件
光跡 2020-08-20 11:55
隱藏的是什么
嚶?lián)糸L空 2024-05-31 08:21
反應(yīng)濺射鍍鋁是加氧鍍氧化鋁嗎 r7)iNTQ1  
xiezhizhi 2024-06-01 15:48
一樣的 D