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2010-04-14 11:51 |
供應(yīng)新型多種電子槍
一.概述 yBs
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本蒸發(fā)源系坩堝由電機(jī)直接驅(qū)動、電子束偏轉(zhuǎn)角為270º、用于蒸鍍各種金屬和非金屬材料的磁偏轉(zhuǎn)式E型電子束蒸發(fā)裝置。 {IqbO>|"O_
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用于真空鍍膜過程中電子束蒸發(fā)鍍膜。實際中廣泛應(yīng)用于：增透膜、眼鏡鍍膜、光纖光學(xué)、高反鏡、熱/冷反光鏡、低漂移濾波器、帶通濾波器等。 #UI @<0 P)
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電子束蒸發(fā)能夠很好的控制薄膜厚度、控制薄膜的均勻性，增加鍍膜的一致性和重復(fù)性，薄膜易于控制。 w9i1ag
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主要特點： :mY(d6#A>
結(jié)構(gòu)先進(jìn) 0dXZd2oK@
充分借鑒國內(nèi)外先進(jìn)的電子槍的優(yōu)點，具有獨特的水冷和密封結(jié)構(gòu)，經(jīng)多次長時間的實驗證明，電子槍能夠在很大的電子束流下長期穩(wěn)定工作。 Jw"'ZW#W
可在高溫環(huán)境下長期可靠工作 vIz~B2%x
在通常鍍膜工藝中，工件需加熱至很高溫度，整個真空室內(nèi)溫度很高，而本電子槍良好的冷卻系統(tǒng)能保證電子槍在 400℃的高溫環(huán)境下長期正常工作�！� a"#5Jc R3
完全適用于反應(yīng)氣體 9K
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在反應(yīng)沉積鍍膜過程中，通常需要用氧氣或氮氣等與蒸發(fā)的膜料進(jìn)行反應(yīng)沉積所需薄膜，在此過程中增加反應(yīng)氣體的活性和能量，對形成高質(zhì)量薄膜至關(guān)重要。
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本電子槍可以在完全通入反應(yīng)氣體下正常工作。 9d SKlB5J
安裝簡便、維護(hù)簡單運行成本低 LxsB.jb-
本電子槍的安裝非常簡單，耗材只是燈絲及磁件，日常維護(hù)工作主要是更換燈絲及磁件。
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