| wzc520 |
2007-06-01 16:59 |
光學(xué)設(shè)計中的名詞解釋
角放大率 Qe~2'Hw#9
近軸像空間主光線的角度與近軸物空間主光線角度之比。角度的計算考慮近軸的入瞳和出瞳位置。 A5lP%&tu(
變跡法 is3nLm(
變跡法指的是光學(xué)系統(tǒng)的入瞳照明的均勻程度。在缺省的情況下入瞳總是均勻照明的。但在需要得時候，入瞳必須有必要采用非均勻照明。為此，支持入瞳變跡法，這樣使得入瞳上的光能量的振幅可為變量。ZEMAX支持三種入瞳變跡法：均勻分布，高斯分布和正切分布。對每一種振幅分布（除均勻分布），變跡因子決定了光能量振幅對入瞳變化比例。參見“系統(tǒng)菜單”中變跡類型和變跡因子的討論。 l*+"0
ZEMAX也支持用戶自定義變跡，而且用戶自定義變跡可置于任何一個表面。表面變跡的作用不同于入瞳變跡，原因在于表面不一定位于入瞳。關(guān)于表面變跡的更多信息，參見“表面類型”一章中的“用戶自定義表面”。 K{
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后焦長度 Se
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