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infotek 2025-01-08 07:51

微透鏡陣列后光傳播的研究

1. 摘要 0sqFF[i  
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隨著光學(xué)投影系統(tǒng)和激光材料加工單元等現(xiàn)代技術(shù)的發(fā)展,對(duì)光學(xué)器件的專(zhuān)業(yè)化要求越來(lái)越高。微透鏡陣列正是這些領(lǐng)域中一種常用元件。為了充分了解這些元件的光學(xué)特性,有必要對(duì)微透鏡陣列后各個(gè)位置的光傳播進(jìn)行模擬。在這個(gè)應(yīng)用案例中,我們將分別研究元件后近場(chǎng)、焦區(qū)以及遠(yuǎn)場(chǎng)特性。 a#4?cEy  
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2. 系統(tǒng)配置 #R"*c hLV  
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3. 系統(tǒng)建模模塊-組件 ^ y::jK  
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4. 總結(jié)—組件…… \Z/@C lCm  
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仿真結(jié)果 \85i+q:LuA  
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1. 場(chǎng)追跡結(jié)果—近場(chǎng) ]/Pn EU[  
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2. 場(chǎng)追跡結(jié)果—焦平面 HtFDlvdy]  
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3. 場(chǎng)追跡結(jié)果—遠(yuǎn)場(chǎng) CTb%(<r  
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