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微透鏡陣列后光傳播的研究
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infotek
2025-01-08 07:51
微透鏡陣列后光傳播的研究
1. 摘要
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隨著光學(xué)投影系統(tǒng)和激光材料加工單元等現(xiàn)代技術(shù)的發(fā)展,對(duì)光學(xué)器件的專(zhuān)業(yè)化要求越來(lái)越高。微透鏡陣列正是這些領(lǐng)域中一種常用元件。為了充分了解這些元件的光學(xué)特性,有必要對(duì)微透鏡陣列后各個(gè)位置的光傳播進(jìn)行模擬。在這個(gè)應(yīng)用案例中,我們將分別研究元件后近場(chǎng)、焦區(qū)以及遠(yuǎn)場(chǎng)特性。
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2. 系統(tǒng)配置
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3. 系統(tǒng)建模模塊-組件
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4. 總結(jié)—組件
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仿真結(jié)果
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1. 場(chǎng)追跡結(jié)果—近場(chǎng)
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2. 場(chǎng)追跡結(jié)果—焦平面
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3. 場(chǎng)追跡結(jié)果—遠(yuǎn)場(chǎng)
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