一種用于光刻機的深紫外MicroLED陣列
香港科技大學(xué)的科學(xué)家們開發(fā)了一種用于光刻機的新型深紫外（UVC）微型LED顯示陣列，這標(biāo)志著半導(dǎo)體技術(shù)的重大進步。該研究成果發(fā)表在《自然▪光子學(xué)》上。 u3cg&l EgT
研究團隊開發(fā)的UVC 微型LED提供了足夠的光輸出功率密度，通過減少曝光光刻膠膜所需的時間，實現(xiàn)了更高效、更具成本效益的無掩膜光刻。 e MOp}.zt|
這項研究是與南方科技大學(xué)和中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所合作進行的，由香港科技大學(xué)先進顯示與光電技術(shù)國家重點實驗室創(chuàng)始人兼主任KWOK Hoi-Sing教授領(lǐng)導(dǎo)。 gjJ:s,F g
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制造的MicroLED模型外觀 2#R0Bd
光刻機對半導(dǎo)體制造至關(guān)重要，因為它們使用短波長紫外光生產(chǎn)具有復(fù)雜布局的集成電路芯片。然而，傳統(tǒng)的汞燈和深紫外LED光源面臨諸如器件尺寸大、分辨率低、能耗高、光效率差和光功率密度不足等挑戰(zhàn)。 ?<OE|nb&
為了解決這些限制，研究團隊開發(fā)了一個無掩膜光刻平臺原型，并利用它制造了第一個使用深紫外微LED進行無掩膜曝光的微LED器件。這一創(chuàng)新提高了光學(xué)提取效率、熱分布和生產(chǎn)過程中的外延應(yīng)力緩解。 t
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